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概 述: 水源為二***反滲透產(chǎn)水,水質(zhì)較好。EDI系統(tǒng)采用50m3/h設(shè)計,拋光混床采用60m3/h循環(huán)設(shè)計。 一、 原水***性 1.設(shè)計水源:二***反滲透產(chǎn)水。 電導(dǎo)率:≤10us/cm PH: 6.0-7.0 硬度: ≤30umol/L 水溫:常溫 二氧化硅:≤100ug/L 二、 系統(tǒng)出力(25℃) 2.EDI 回收率:90-95% 產(chǎn)水量:50m3/h(25℃) 產(chǎn)水電阻率:15兆歐 3.拋光混床 產(chǎn)水量:60m3/h(25℃) 產(chǎn)水電阻率:18.2兆歐 三、設(shè)計標(biāo)準(zhǔn)與規(guī)范4.1 國產(chǎn)設(shè)備的制造和材料符合以下標(biāo)準(zhǔn)、規(guī)范: ASTM-D5127-2013(電子及半導(dǎo)體工業(yè)用純水水質(zhì)要求)(GB/T 50109-2006)《工業(yè)用水軟化除鹽設(shè)計規(guī)范》 (GB/T 13922-2011 )《水處理設(shè)備性能試驗》 (GB/T 19249-2003)《反滲透水處理設(shè)備》 (GB 150-2011)《壓力容器》 (GB/T 4272-2008)《設(shè)備及管道絕熱技術(shù)通則》 (GB 50316-2000(2008版))《工業(yè)金屬管道設(shè)計規(guī)范》 (GBJ 87-1985)《 工業(yè)企業(yè)噪聲控制設(shè)計規(guī)范》 (HG 20538-1992)《襯塑(PP、PE、PVC)鋼管和管件》 (HG 21501-1993)《襯膠鋼管和管件》 (HG/T 20679-1990)《化工設(shè)備、管道外防腐設(shè)計規(guī)定》 (HG/T 20592~20614-2009 )《鋼制管法蘭、墊片、緊固件 (PN系列)》 (JB/T 2932-1999)《水處理設(shè)備 技術(shù)條件》 (JB/T 4711-2003)《壓力容器涂敷與運(yùn)輸包裝》 (NB/T47003.1-2009(JB/T 4735.1)《鋼制焊接常壓容器》 (NB/T 47014-2011)《承壓設(shè)備焊接工藝評定》
四、 系統(tǒng)工藝及說明
1、工藝流程框圖
二***脫鹽水→UV滅菌器→脫鹽水箱→EDI給水泵→TOC脫除器→0.2um膜濾器
→膜脫氣裝置→EDI裝置→氮封水箱→超純水泵→膜脫氣裝置→TOC脫除器
→拋光混床→0.1um膜濾器→回流UV滅菌器→回流到氮封水箱(10t/h) ↓ 用水點 (50t/h) 2.清洗工藝流程 清洗水箱→清洗水泵→清洗保安過濾器→EDI 五、系統(tǒng)設(shè)備簡介 5.1 EDI給水泵 EDI給水泵的作用是將合格的二***脫鹽水輸送至EDI系統(tǒng)。 5.2 紫外線滅菌器 紫外線滅菌器的作用是殺死純水中的細(xì)菌和微生物。紫外線按其生物學(xué)作用的差異, 紫外線可分為UV-A(320-400nm)、UV-B(275-320nm)、UV-C(200-275nm)和真空紫外線部分。 水處理中實際上使用紫外線的UV-C部分。波長在240-270nm的紫外線能破壞DNA生產(chǎn)蛋白質(zhì)及復(fù)制的能力。 5.3 TOC脫除器 TOC脫除器紫外線波長為180納米,可將脫氣膜系統(tǒng)產(chǎn)水中的總有機(jī)碳(TOC)分解成離子并脫除。 5.4 0.2um膜濾器 采用大流量的0.2um濾芯過濾,以去除超純水中可能存在的細(xì)小微粒和細(xì)菌。 本系統(tǒng)配置1臺0.2um膜濾器,采用15支0.2umX40寸濾芯過濾。 5.5 EDI系統(tǒng)EDI是一種將電滲析和離子交換相互結(jié)合在一起的除鹽新工藝,該工藝過程取電滲析和離子交換兩者之長,彌補(bǔ)對方之短,即利用離子交換能深度脫鹽來克服電滲析極化而脫鹽不徹底,又利用電滲析極化而發(fā)生水電離產(chǎn)生H+和OH-實現(xiàn)樹脂自再生來克服樹脂失效后通過化學(xué)藥劑再生的缺陷。因而EDI技術(shù)是一種完美的除鹽工藝。 EDI電去離子膜堆同時進(jìn)行著如下三個主要過程: 1) 陰、陽混合離子交換樹脂上的OH- 和H+ 離子對水中電解質(zhì)離子的離子交換過程(從而加速去除純水室內(nèi)水中的離子);2)在外電場作用下,水中電解質(zhì)離子通過離子交換膜進(jìn)行選擇性遷移的電滲析過程;3) 電滲析的極化過程所產(chǎn)生的H+和OH-及交換樹脂本身的水解作用對交換樹脂進(jìn)行的再生過程。這三個過程同時發(fā)生,相互促進(jìn),實現(xiàn)了EDI連續(xù)去離子。 l EDI進(jìn)水要求 為了保證 EDI 膜塊在使用中能發(fā)揮***好的效果,必要的進(jìn)水條件,是需要滿足的。
5.6 氮封水箱 氮封水箱用于儲存EDI系統(tǒng)產(chǎn)水,其目的是為了保證供水水質(zhì)的穩(wěn)定,同時可通過水箱的液位控制裝置控制超純水泵的啟停,調(diào)節(jié)系統(tǒng)的產(chǎn)水量變化。但是由于超純水與空氣接觸即變質(zhì),因此水箱必須用99.995%以上的高純氮?dú)饧右员Wo(hù)。 5.7脫氣膜系統(tǒng) 為了得到高電阻率的超純水,應(yīng)該除去水中的二氧化碳和溶解氧氣體。其中,二氧化碳的去除尤為重要。采用脫氣膜可以消除二氧化碳等因素隊水質(zhì)的影響。系統(tǒng)配有一套完善的脫氣系統(tǒng),主要有真空泵和脫氣膜組成。 脫氣膜采用微孔中空纖維膜脫除水中的二氧化碳和溶解氧。 在典型的操作運(yùn)行中,水在中空纖維膜絲外側(cè)流動,同時中空纖維膜絲內(nèi)部抽真空或者施加氣體吹掃,或者兩者結(jié)合。經(jīng)過疏水化處理的中空纖維膜絲表面上有很多微孔,這些微孔允許氣體分子穿過,卻能阻擋水分子的穿透。在抽真空或者氣體吹掃的負(fù)壓下,中空纖維膜絲外側(cè)水中溶解的氣體,通過微孔不斷向中空纖維膜絲內(nèi)部移動,并被抽真空或者吹掃氣體帶走,從而達(dá)到脫除水中溶解性氣體的目的。 5.8拋光混床 為獲得電子、醫(yī)藥或其他行業(yè)用電導(dǎo)率0.055μS/cm(電阻率18.2 MΩ·cm)的理論純水,在普通混床或EDI凈水設(shè)備后,通常還裝設(shè)拋光混床進(jìn)行***終的精處理。這種拋光混床用樹脂是相對密度很接近的陰樹脂和陽樹脂的混合物,由于無法將這種樹脂的陰、陽樹脂分離,不能用酸堿將它們分別再生,所以這種拋光樹脂失效后,不能再重復(fù)使用。5.9 0.1um膜濾器 采用大流量的0.1um濾芯過濾,以去除超純水中可能存在的細(xì)小微粒和細(xì)菌。主要是控制微小顆粒、樹脂破碎的碎末等。 5.10 回水紫外線殺菌器 主要作用是保證終端系統(tǒng)的回水水質(zhì)。 5.11清洗系統(tǒng) EDI膜堆一般運(yùn)行一定時間需要清洗消毒,以保證設(shè)備的使用壽命。其操作過程必須嚴(yán)謹(jǐn),需由專業(yè)人員完成。 (1) 化學(xué)清洗系統(tǒng)包括清洗箱、清洗泵、保安過濾器及和連接的管道、接頭、監(jiān)測儀表等。 (2) 清洗系統(tǒng)清洗箱、管道材質(zhì)、水泵及清洗保安過濾器均為符合適用于所有的清洗液相應(yīng)耐腐等***。
五、電氣控制系統(tǒng) 控制系統(tǒng)采用PLC+上位機(jī)控制系統(tǒng)?蓪崿F(xiàn)手動/自動的切換,并預(yù)留以太網(wǎng)接口,可接入中控室進(jìn)行遠(yuǎn)程操作。整個系統(tǒng)包括(水箱和水泵)的實現(xiàn)就地控制。乙方提供的PLC對系統(tǒng)過程進(jìn)行集中監(jiān)控。即脫水處理站生產(chǎn)過程的監(jiān)控、操作及狀態(tài)監(jiān)控、故障報警、顯示、累計和調(diào)節(jié)、程序的控制、報警的確認(rèn)、消音和復(fù)位,均由乙方提供的PLC實施。同時部分參數(shù)送至甲方的DCS系統(tǒng)進(jìn)行顯示。 六、設(shè)備配置表(詳細(xì)電聯(lián)) |
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